光刻應(yīng)用

XZC光刻過濾器采用一系列膜材料來有效地去除工藝中的污染物。消除了有害微粒污染，凝膠微橋缺陷，微泡空洞缺陷以及晶片表面上的金屬污染的可能性。高潤濕性膜不會阻礙空氣排出，導(dǎo)致較少的微泡形成和較短的吹掃時間。

優(yōu)化過濾器設(shè)計可減少啟動過程中的化學(xué)品使用量，并大程度的減少了在晶片表面氣泡缺陷的形成。過濾器清除空氣可防止形成微泡，這對于減少涂層缺陷和提高產(chǎn)量至關(guān)重要。過濾器的設(shè)計在兩端提供較低的壓差，并在分配過程中較大限度地減少氣泡的形成。

XZC的過濾器設(shè)計使用大表面積，低壓差，從而提高凝膠去除效率和小化微泡形成。

低操作壓力確保過濾器在分配過程中不會導(dǎo)致光化學(xué)物質(zhì)釋放出氣體，因?yàn)樗鼈冊诜峙溥^程中從高壓分配到低壓。這可以通過具有低壓降的過濾器來實(shí)現(xiàn)。尼龍6,6和高密度聚乙烯膜與典型的光刻化學(xué)品完全兼容，在提取物方面極其干凈，并具有優(yōu)異的潤濕性。